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Titre : | Procédés chimiques de dépôt à partir d'une phase gazeuse |
Auteurs : | Yves Pauleau, Auteur |
Type de document : | texte imprimé |
Editeur : | Paris : Hermès science publications, 2004 |
ISBN/ISSN/EAN : | 978-2-7462-0948-0 |
Format : | 415 p. / 24 x 16 cm |
Note générale : |
Bibliogr. Index |
Langues: | Français |
Index. décimale : | 542 |
Mots-clés: | dépôt chimique en phase vapeur |
Résumé : |
Présente trois parties : procédés CVD (Chemical Vapor Deposition) thermiquement activés, procédés CVD activés par plasma et procédés CVD activés par un faisceau de photons. |
Exemplaires
Code-barres | Cote | Support | Localisation | Section | Disponibilité |
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aucun exemplaire |